氮化硅壓力燒結爐

　　氮化硅壓力燒結爐采用微電腦控制技術、PLC控制技術以及先進的電控元器件，實現自動化，用戶裝完爐后，只需選擇自動即可完成整爐材料的燒制。本設備由電爐體、加熱系統、升降系統、冷卻系統、充放氣系統、電控系統等組成。設備根據爐內溫度、充放氣體的種類、速度、比例以及爐內游離硅的量進行反映，從而生成氮化硅。

　　該設備廣泛應用于金屬材料在低真空、還原性、保護性氣氛下的熱處理，也可以用于特殊材料的熱處理，如碳制品的碳化工藝研制之用，如電池材料、稀土材料、磁性材料、陶瓷材料等的干燥盒煅燒。耐火材料采用氧化鋁纖維，保溫節能效果良好；外封閉式真空灌并帶水冷系統；整機結構新穎，操作方便。

　　氮化硅壓力燒結爐的技術參數：

　　1、型號：PVSgr-20/25-2000 (G2)

　　2、設計溫度（℃）：2000

　　3、溫度均勻（℃）：±5

　　4、真空度范圍：10Pa

　　5、充氣體種類：氮氣/氬氣

　　6、氣體壓力（MPa）(選配）：6or10

　　7、冷卻系統（選配）：HCA-10

　　8、爐膛尺寸(寬X高X長)（mm）：Φ200×250

　　9、裝卸料方式：立式上取料

　　10、加熱方式：石墨加熱